适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物

摘要

公开了一种适用于去除蚀刻后的光致抗蚀剂和底部抗反射涂层的组合物。该水基组合物包含至少一种离液序列高的溶质、至少一种碱性碱和去离子水。采用该组合物在集成电路的制造中实现了硬化的光致抗蚀剂和/或BARC材料的高效去除，而不会不利地影响基片上的金属物质、例如铜，也不会破坏在微电子装置结构中使用的低k介电材料。