机译:193nm和248nm的方法第一和第二代辐射敏感可开发的底抗反射涂层(DBarc)
机译:第一代和第二代辐射敏感的可显影底部防反射涂层(193 ARC和248 RAN)的方法
机译:193nm第二代辐射敏感的可显影底部抗反射涂层的抗植入剂方法
机译:可显影底部防反射涂层(DBARC)的进步与挑战
机译:用于193nm平版印刷的第二代辐射敏感的可显影底部抗反射涂层(DBARC)和抗植入剂方法
机译:用于光学推进应用的钨基三氧化锆的可变反射率辐射涂层
机译:用于CIGS太阳能电池的防反射涂层的实时优化
机译:193NM第二代辐射敏感可开发底抗反射涂层的植入抗蚀剂方法