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【2h】

Implant Resist Approaches for 193nm Second Generation Radiation Sensitive Developable Bottom Anti Reflective Coatings

机译：193NM第二代辐射敏感可开发底抗反射涂层的植入抗蚀剂方法

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Francis Houlihan; Alberto Dioses; Medhat Toukhy; Andrew Romano; Joseph Oberlander; HengPeng Wu; Salem Mullen; Alexandra Krawicz; PingHung Lu; Mark Neisser;
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年度 2007
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1. Implant Resist Approaches for 193nm Second Generation Radiation Sensitive Developable Bottom Anti Reflective Coatings [J] . Francis Houlihan, Alberto Dioses, Medhat Toukhy Journal of Photopolymer Science and Technology . 2007,第3期

机译：193nm第二代辐射敏感的可显影底部抗反射涂层的抗植入剂方法
2. Approaches for 193 ran and 248 ran First and Second Generation Radiation Sensitive Developable Bottom Anti Reflective Coatings(DBARC) [J] . Francis Houlihan, Shinji Miyazaki, Alberto Dioses Journal of Photopolymer Science and Technology . 2008,第3期

机译：第一代和第二代辐射敏感的可显影底部防反射涂层（193 ARC和248 RAN）的方法
3. Understanding deviations in lithographic patterns near interfaces: Characterization of bottom anti-reflective coatings (BARC) and the BARC-resist interface [J] . Joseph L. Lenhart, Daniel Fischer, Sharadha Sambasivan, Applied Surface Science . 2007,第9期

机译：了解界面附近光刻图案的偏差：底部抗反射涂层（BARC）和BARC抗蚀剂界面的表征
4. Second Generation Radiation Sensitive Developable Bottom Anti Reflective Coatings (DBARC) and Implant Resists Approaches for 193nm Lithography [C] . Francis Houlihan, Alberto Dioses, Medhat Toukhy, Advances in Resist Technology and Processing XXIV pt.1; Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering; vol.6519 pt.1 . 2006

机译：用于193nm平版印刷的第二代辐射敏感的可显影底部抗反射涂层（DBARC）和抗植入剂方法
5. Tungsten Trioxide-based Variable Reflectivity Radiation Coatings for Optical Propulsion Applications [D] . Vlastos, Joseph Niko. 2020

机译：用于光学推进应用的钨基三氧化锆的可变反射率辐射涂层
6. Substrate-anchored and degradation-sensitive anti-inflammatory coatings for implant materials [O] . Duo Wu, Xingyu Chen, Tianchan Chen, -1

机译：基质锚定和降解敏感的抗炎涂层用于植入材料
7. Approaches for 193nm and 248nm First and Second Generation Radiation Sensitive Developable Bottom Anti Reflective Coatings (DBARC) [O] . Francis Houlihan, Shinji Miyazaki, Alberto Dioses, 2008

机译：193nm和248nm的方法第一和第二代辐射敏感可开发的底抗反射涂层（DBarc）

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