development parameter; 193 nm; lithography simulation; photoresist;
机译:193nm顶表面成像工艺的非化学放大抗蚀剂和化学放大抗蚀剂的光刻性能
机译:用于193 Nm光刻的化学放大光刻胶:分子结构和光子参数对光图案化的影响
机译:从用于极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂的线和空间图案中提取抗蚀剂参数
机译:改进193 nm化学放大抗蚀剂图案密度的显影参数
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:寡核苷酸和变形例的表征193纳米光解和电子光剥离解离
机译:193nm顶表面成像过程的非化学放大抗蚀剂和化学放大抗蚀剂的光刻性能。