MOSFET; stress effects; tunnelling; Auger effect; hot carriers; hot-carrier induced drain current degradation; pMOSFET; high gate voltage stress; electron tunneling; gate plus Auger recombination; hot-hole energy gain; gate oxide; lower drain voltage;
机译:空穴注入增强了用于6.5-2 nm厚栅极氧化物的片上系统的PMOSFET中的热载流子退化
机译:在沟道热载流子/栅极引起的漏极泄漏交替应力作用下,具有高k /金属栅叠层的n-MOSFET的增强降解
机译:浅沟槽隔离的窄沟道PMOSFET中增强的热载流子引起的退化
机译:在高栅极电压下,增强的热载体引起的PMOSFET中的降解
机译:具有氧氮化物栅极电介质的p + -poly PMOSFET中的热孔退化和负偏压温度不稳定性(NBTI)增强。
机译:依达拉奉对Aβ1–40诱导的电压门控钙通道电流增强的影响
机译:在改进的晶片上制造的130nm部分耗尽的SOI PMOSFET中由热载体注射诱导的降解
机译:双极晶体管中热载流子应力与电离诱导退化的相关性