...
机译:空穴注入增强了用于6.5-2 nm厚栅极氧化物的片上系统的PMOSFET中的热载流子退化
Laboratoire Materiaux et Microelectronique de Provence (L2MP-UMR CNRS 6137)-ISEM, Ins, Maison des Technologies, Place Georges Pompidou, 83000 Toulon, France;
机译:深孔陷阱效应对6.5-2 nm厚的栅极氧化物PMOSFET的降解机理的影响
机译:在2.1 nm厚的栅极氧化物P-MOSFET中的空穴注入下生成界面陷阱的效率
机译:浅沟槽隔离的窄沟道PMOSFET中增强的热载流子引起的退化
机译:热孔注入下具有氧氮化物栅极电介质的P〜+聚PMOSFET的增强降解
机译:具有氧氮化物栅极电介质的p + -poly PMOSFET中的热孔退化和负偏压温度不稳定性(NBTI)增强。
机译:使用乙酸触发降解250μm厚的Mg靶标用于瞬态电子应用
机译:在改进的晶片上制造的130nm部分耗尽的SOI PMOSFET中由热载体注射诱导的降解
机译:宽带热载流子二极管门及其在电子空穴等离子体中的应用