silicon; elemental semiconductors; etching; isolation technology; field effect transistors; thickness measurement; statistical process control; metrology; shallow trench isolation etching; scatterometer; etch process control; process monitoring; improved tool availability; improved transistor performance; Si;
机译:在0.15μm浅沟槽隔离工艺中通过等离子刻蚀减少化学机械抛光缺陷
机译:65nm以下低功耗互补金属氧化物半导体技术通过优化浅沟槽隔离工艺来改善浅沟槽隔离应力
机译:65nm以下低功耗互补金属氧化物半导体技术通过优化浅沟槽隔离工艺来改善浅沟槽隔离应力
机译:浅沟槽隔离蚀刻的改进过程,计量和方法
机译:浅沟槽隔离蚀刻线边缘粗糙度的表征。
机译:来自浅水低放射性废物处置场的地沟渗滤液的微生物活性。
机译:浅沟槽隔离蚀刻线边缘粗糙度的表征
机译:低放射性固体废弃物改良浅层埋地实践的现场论证:初步场地特征和进展报告(沟槽衬垫和改善浅埋土地的灌浆)。