机译:适用于193和157 nm光刻应用的低碱性污染底部抗反射涂层
机译:F_2准分子激光平版印刷中的低碱性污染双层底层抗反射涂层
机译:自交联底部抗反射涂层和间隙填充材料在ArF光刻中降低升华缺陷的研究
机译:利用ARF光刻中的多层底抗反射涂层结构来减少衬底碱性污染
机译:用于钛-6-铝-4-钒和316L不锈钢植入物应用的溶胶凝胶衍生的氧化锆薄膜涂料:氧化锆的微观结构和涂层-基材体系对施加变形的响应的研究。
机译:纳米银胶体光刻技术在硅衬底上制备的抗反射纳米结构阵列。
机译:纳米银胶体光刻技术在硅衬底上制备的抗反射纳米结构阵列。
机译:用于极紫外光刻应用的高反射率多层涂层中薄膜应力的减少和补偿的进展