electron beam lithography; resists; 3D HSQ resist structure; EB acceleration voltage; electron beam lithography; hydrogen silsesquioxane; negative resist; HSQ; electron beam lithography; three-dimensional structure;
机译:电子束光刻技术制作三维氢倍半硅氧烷抗腐蚀结构
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:利用分流工艺实现用于高分辨率电子束光刻的超薄HSQ抗蚀剂层的实现
机译:用电子束光刻制造三维HSQ抗蚀剂结构
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:通过提高精度的电子束光刻覆盖层来制造三维悬浮层间和分层纳米结构
机译:使用电子束光刻技术在超薄HsQ抗蚀剂层中写入的亚10nm结构
机译:聚合物表面的改性及亚微米级功能化结构的深紫外和电子束光刻制备