Laser Application Technology Center, Industrial Technology Research Institute, No. 8 Gongyan Rd., Liujia Shiang, Tainan County, 73445, Taiwan;
School of Physics, University College Dublin, Belfield, Dublin 4, Ireland;
rnSchool of Physics, University College Dublin, Belfield, Dublin 4, Ireland;
rnSchool of Physics, University College Dublin, Belfield, Dublin 4, Ireland;
rnSchool of Physics, University College Dublin, Belfield, Dublin 4, Ireland;
LPP; EUV; lithography; DOE; patterning;
机译:用于极端紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体辐射辐射致氢等离子体中的电子密度和温度的时间分辨空间曲线
机译:暴露在激光产生的等离子体中和放电产生的等离子体极端紫外线源之前和之后的收集器光学材料样品的特性
机译:极紫外光刻光源的激光产生锡等离子体中的带外辐射和等离子体参数的表征
机译:空间分布激光产生等离子体极端紫外源的生成与表征
机译:研究激光产生的等离子体产生的极紫外线,作为下一代光刻的来源。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:激光产生的极紫外辐射等离子体源的分布式锡靶的RZLINE代码建模(vol 11,021112,2012)
机译:预制激光产生的等离子体,以更有效地泵浦极紫外激光器