Department of Electrical Engineering, Doshisha University, 1-3 Tatara-Miyakodani, Kyotanabe, Kyoto 610-0321, Japan;
carbon; shunting arc; plasma-based ion implantation (PBII); magnetically driven; diamond-like-carbon (DLC);
机译:PBII&D使用分流电弧放电沉积非晶碳膜
机译:利用磁驱动的分流电弧放电实现非晶碳膜的高沉积速率
机译:分流电弧放电触发混合RF(195kHz)等离子体制备的非晶碳膜的特性
机译:通过磁力驱动的分流电弧放电非晶碳膜沉积
机译:非晶碳和非晶硅膜的沉积,表征和器件应用。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:通过辉光放电和离子束辅助沉积沉积的非晶碳膜的硬度和应力
机译:阴极电弧沉积制备非晶态硬碳薄膜的力学性能