硅片表面液相电化学法沉积非晶碳膜研究

摘要

采用高压脉冲直流电源,以甲醇及添加剂为电解质,通过电化学法在多晶硅片表面沉积了非晶碳膜.探讨了不同电压、电极间距、温度条件下非晶碳膜的沉积工艺.采用扫描电镜(SEM)和拉曼光谱(Raman)表征薄膜的表面形貌、显微结构及晶体结构.结果表明:在甲醇-脲(1000∶1)和甲醇-去离子水(1:5)的电解液中均可以沉积得到碳膜,薄膜由细小、不连续的颗粒组成,粒度约为400-600rim;Raman光谱分析表明薄膜在1353cm-1和1602cm-1处出现非晶碳的特征峰.