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热辅助磁存储硬盘非晶碳保护膜的石墨化及氧化行为研究
STUDY OF GRAPHITIZATION AND OXIDATION OF AMORPHOUS CARBON OVERCOAT FOR HEAT-ASSISTED MAGNETIC RECORDING
摘 要
Abstract
目 录
Contents
第1章 绪 论
1.1 课题研究目的及意义
1.2 硬盘组成及发展现状
1.2.1 硬盘组成
1.2.2 磁头组成及发展现状
1.2.3 磁盘组成及发展现状
1.3 热辅助磁存储技术研究现状
1.4 非晶碳保护膜研究现状
1.4.1 非晶碳结构与特性
1.4.2 非晶碳制备与仿真建模方法现状
1.4.3 非晶碳薄膜石墨化与氧化行为研究现状
1.5 本文研究的主要内容
第2章 非晶碳薄膜的分子动力学模型与结构分析
2.1 引言
2.2 非晶碳薄膜建模与分析方法
2.2.1 分子动力学概述
2.2.2 无掺杂非晶碳薄膜建模方法
2.2.3 硅掺杂非晶碳薄膜建模方法
2.2.4 薄膜结构分析方法
2.3 无掺杂非晶碳薄膜结构分析
2.3.1 温度与系统状态分析
2.3.2 配位数分析
2.3.3 径向分布函数分析
2.3.4 键角分布分析
2.3.5 淬火时间与势函数对薄膜结构的影响
2.4 硅掺杂非晶碳薄膜结构分析
2.4.1 温度与系统状态分析
2.4.2 配位数分析
2.4.3 径向分布函数分析
2.5 本章小结
第3章 无掺杂非晶碳保护膜石墨化与氧化行为仿真研究
3.1 引言
3.2 单脉冲激光照射时无掺杂非晶碳薄膜温度演变过程
3.2.1 分子动力学模型与仿真方法
3.2.2 势函数选择
3.2.3 温度随时间的演变过程
3.3 无掺杂非晶碳薄膜石墨化行为研究
3.3.1 分子动力学模型与仿真方法
3.3.2 第一次脉冲激光照射时薄膜结构演变规律
3.3.3 密度与照射次数对无掺杂非晶碳石墨化状态的影响
3.4 无掺杂非晶碳薄膜氧化行为研究
3.4.1 分子动力学模型与仿真方法
3.4.2 激光加热速率对无掺杂非晶碳氧化状态的影响
3.4.3 激光照射次数对无掺杂非晶碳氧化状态的影响
3.4.4 无掺杂非晶碳薄膜氧化机理
3.5 本章小结
第4章 无掺杂非晶碳保护膜石墨化与氧化行为实验研究
4.1引言
4.2 薄膜制备、表征及分析
4.2.1 薄膜制备方法
4.2.2 薄膜表征方法
4.2.3 薄膜磁性、成分与结构分析
4.3 HAMR模拟实验系统原理及方法
4.4 激光功率与照射时间对薄膜石墨化与氧化状态的影响
4.4.1 薄膜石墨化及氧化过程
4.4.2 薄膜石墨化后拉曼光谱分析
4.4.3 薄膜氧化后XPS能谱分析
4.5 本章小结
第5章 硅掺杂非晶碳保护膜石墨化与氧化行为仿真研究
5.1引言
5.2 分子动力学模型与仿真方法
5.2.1 分子动力学模型
5.2.2 仿真方法
5.3 薄膜弛豫过程分析
5.4 第一次脉冲激光照射过程中薄膜结构与氧化状态演变规律
5.5 激光照射次数对薄膜结构与氧化状态的影响
5.6 失效过程中薄膜结构与氧化状态演变规律
5.7 硅掺杂非晶碳薄膜氧化机理
5.8 本章小结
结 论
参考文献
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果
致 谢
个人简历
