Beijing Microelectronics Institute, Beijing, China;
China Aerospace Corporation, Beijing, China;
Beijing Normal University, Beijing, China;
China Resource Semiconductor, Hong Kong, China;
Florence Science and Technology, San Jose, CA., U.S.A.;
机译:非对称Si / Si_(1-x)Ge_x沟道垂直p型金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:Ge含量较高时,短通道电子辐照Si_(1-x)Ge_x源/漏p型金属氧化物半导体场效应晶体管的辐射硬度提高
机译:器件兼容的砷化镓在具有薄(〜80 nm)Si_(1-x)Ge_x台阶缓变缓冲层的硅衬底上的分子束外延生长,用于高κⅢ-Ⅴ型金属氧化物半导体场效应晶体管的应用
机译:绝缘体上有效沟道长度为5-18nm的Si,Ge和Si1-xGex垂直双载流子场效应晶体管集成电路的器件物理和设计理论
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:基于Ω型栅极有机铁电P(VDF-TrFE)场效应晶体管的低可编程电压非易失性存储器件使用p型硅纳米线通道
机译:基于单个单壁碳纳米管场效应晶体管的集成电路
机译:上海无线电厂14.全国第一家专注于mOs集成电路的无线电厂。理想的半导体器件,场效应晶体管和mOs集成电路。