Grad. Sch. of Eng., Osaka Univ., Suita, Japan;
III-V semiconductors; catalysts; chemical reactions; etching; gallium compounds; planarisation; platinum; semiconductor growth; sodium; surface roughness; wide band gap semiconductors; CARE-assisted photoelectrochemical reaction; GaN; Na; Na flux method; PEC CARE process; Pt; atomic scale flattening; catalyst-referred etching; deionized water; platinum catalyst; step-terrace structures; subsurface scratches; surface roughness; voltage 2.5 V; Gallium nitride; Optical interferometry; Planarization; Rough surfaces; Substrates;
机译:通过Na助熔剂法生长的氮化镓基板的平坦化
机译:利用由液体源前驱物形成的氮化镓种子层在硅衬底上生长的外延氮化镓薄膜
机译:在氮化和氧化的Si衬底上生长的HfO_(2)/ Al_(2)O_(3)薄膜的原子尺度表征
机译:通过Na通量法施加催化剂蚀刻的Na磁体法的平坦化
机译:在极性和非极性氮化镓衬底上生长的氮化铟镓/氮化镓量子阱。
机译:通过氮化硅衬底上电化学沉积的氧化镓的氮化合成氮化镓纳米结构
机译:在氧化镓衬底上外延生长的氮化镓,用于在可见和电信波长下生成光子对
机译:在包括非氮化镓柱的基板上制造氮化镓半导体层的方法,以及由此制造的氮化镓半导体结构。