Centre of Structure Technologies, ETH Zurich Leonhardstrasse 27, LEO B3, CH-8092 Zurich, SWITZERLAND;
机译:横向半导电和高分子导电纳米层结构:制备,性能和应用
机译:图案化的厚光致抗蚀剂层,用于在湿法和干法蚀刻过程中保护突出结构
机译:双层架构和发光二极管应用中的一维微尺寸缀合的聚合物结构
机译:用于AFCS应用的图案化结构由厚层的导电聚合物制成
机译:用于导电纳米材料构图和抗皱应用的聚电解质多层涂料
机译:准确有效活菌芯片图案而厚聚阳离子聚合物层共图案与HmDs
机译:可视化聚合物。聚合物系统形成的图案。 I.一种新型样品制备方法(深度蚀刻截面法)的开发和一些应用,用于使用透射电子显微镜观察聚合物材料的高阶结构。
机译:导电聚合物技术在新型多层电容器生产中的应用