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机译:产生精密厚层结构图案的方法和产生精密厚层结构图案的设备
公开/公告号PL202552B1
专利类型
公开/公告日2009-07-31
原文格式PDF
申请/专利权人 INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ;
申请/专利号PL20030362452
发明设计人 CIEZDOT;MICHALSTROK;MAGONACUTE;SKI ZBIGNIEW;NOWAK STANISLSTROK;AW;DZIURDZIA BARBARA;
申请日2003-09-26
分类号H05K3/00;C25D3/00;G03F1/92;G03F7/12;
国家 PL
入库时间 2022-08-21 19:25:53
机译: 精密厚层结构图案的产生方法及产生精密厚层结构图案的设备
机译: 多层微结构和基于激光的此类结构精度降低方法
机译: 多层微结构和基于激光的方法,可用于此类结构的精密度和减少的损伤图案化