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机译:精密厚层结构图案的产生方法及产生精密厚层结构图案的设备
公开/公告号PL362452A1
专利类型
公开/公告日2005-04-04
原文格式PDF
申请/专利权人 INSTYTUT TECHNOLOGII ELEKTRONOWEJ;
申请/专利号PL20030362452
发明设计人 MAGONSKI ZBIGNIEW;NOWAK STANISLAW;DZIURDZIA BARBARA;CIEZ MICHAL;
申请日2003-09-26
分类号C25D3/00;
国家 PL
入库时间 2022-08-21 22:16:42
机译: 产生精密厚层结构图案的方法和产生精密厚层结构图案的设备
机译: 多层微结构和基于激光的此类结构精度降低方法
机译: 多层微结构和基于激光的方法,可用于此类结构的精密度和减少的损伤图案化