【24h】

MEMS 封止のためのガス雰囲気中での表面活性化ウェハ常温接合

机译:表面活化晶片在气体气氛中的室温粘合,用于MEMS封装

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摘要

大気圧に匹敵するAr ガス雰囲気中でも,表面活性化法をrn用いることにより, Si ウェハは常温にて実用的な強度で接rn合可能であることが確認された。また,サファイアウェハrnは,表面活性化条件を最適化することにより,真空中・常温rnで強固な接合が得られることが確認された。さらに,サファrnイア同士およびサファイアとSi は,Ar ガス雰囲気中での常rn温接合が可能である。接合強度に関する評価結果およびrnTEM による接合界面の構造観察から,接合雰囲気に存在すrnるAr ガスは接合および界面構造にほとんど影響を与えないrnと考えられる。
机译:可以确认,即使在与大气压相当的Ar气体气氛中,也可以通过使用表面活化方法rn在室温下以实用强度接合Si晶片。还证实了通过优化表面活化条件,蓝宝石晶片rn可以在室温rn的真空中获得牢固的结合。另外,可以在常温下在氩气气氛中将蓝宝石耳和蓝宝石与Si结合。从结合强度的评价结果​​和通过rnTEM对结合界面的结构观察,可以认为,存在于结合气氛中的rn Ar气体对结合界面结构几乎没有影响。

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