Information Display Research Institute, Hanyang University, Seoul, 133-791, Korea;
EUVL; absorber; absorber stack; ARC; reflectivity; Al_2O_3; TaN; capping; buffer;
机译:新型吸收器叠层,可最大程度减少极紫外掩模中的阴影效应
机译:具有高检查对比度的TaSiN_x吸收体堆叠的极紫外掩模制造
机译:通过ArF_i中的吸收体优化和极紫外光刻技术减轻掩模的三维诱导相效应
机译:组合吸收器堆栈,用于优化EUVL面膜
机译:使用组合方法对燃料电池/燃料电池堆进行优化—CFD建模分析和实验
机译:科学快报:膜堆叠的新配置用于回收树脂中吸收的镍
机译:组合方法对燃料电池/燃料电池堆的优化--- CFD建模分析和实验