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机译:新型吸收器叠层,可最大程度减少极紫外掩模中的阴影效应
Hanyang Univ, Div Engn & Mat Sci, Seoul 133791, South Korea;
Hanyang Univ, Informat Display Res Inst, Seoul 133791, South Korea;
Hanyang Univ, Div Informat Display Engn, Seoul 133791, South Korea;
Sungkyunkwan Univ, Dept Mat Sci & Engn, Suwon 440746, Gyeonggi Do, South Korea;
RU BARRIER LAYER; EUVL MASK; MULTILAYER; ENHANCEMENT; PERFORMANCE; REFLECTOR; DESIGN;
机译:具有高检查对比度的TaSiN_x吸收体堆叠的极紫外掩模制造
机译:用极紫外显微镜观察极紫外光刻掩模上残留型薄吸收体缺陷
机译:使用极紫外显微镜评估多层相缺陷上的极紫外光刻掩模吸收体图案
机译:EUVL薄型吸收面罩可最大程度地减少面罩阴影效应的可行性
机译:使用故意模式变形对极端紫外掩模缺陷的缺陷避免
机译:紫外线-B辐射(280-315 nm)暴露于南瓜叶的光合作用生长和紫外线吸收
机译:最大限度地减少极紫外望远镜中周期性网状网格产生的阴影图案
机译:极紫外光刻掩模上基板和吸收体缺陷的可印刷性