EUV Process Technology Research Laboratory, Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET) c/o NTT Atsugi RD Center, 3-1 Morinosato Wakamiya, Atsugi, Japan 243-0198;
LTEM; EUVL; CTE; optical heterodyne interferometer; optics; mask substrate;
机译:膨胀计用于确定EUV ITEM绝对CTE的性能
机译:膨胀计可测量材料的蠕变和CTE
机译:通过绝对干涉膨胀计测量SRM 736铜和20-300 K温度范围内的一些市售铜的线性热膨胀系数
机译:高精度(<1ppb /°C)光学杂差干涉膨胀计,用于确定EUVL材料的绝对CTE
机译:第一部分:皮秒光学量热法:分离焓和体积贡献,并从混合物研究确定绝对焓。第二部分电子转移反应中溶剂重组能的温度和距离依赖性的光谱研究
机译:偶极子(γγ)方法的实现及其在确定氦气绝对光学振荡器强度中的应用
机译:通过光学杂差干涉测量法精密干涉膨胀计。
机译:用于低膨胀材料的激光干涉式膨胀计。