Laser-Laboratorium Goettingen e.V., Hans-Adolf-Krebs-Weg 1, D-37077 Goettingen, Germany;
schwarzschild objective; EUV source; EUV optics; 13.5 nm; laser-induced plasma; Mo/Si; photo-ablation; PMMA;
机译:激光束计量系统,激光束系统,EUV辐射源和光刻设备
机译:源材料输送系统,EUV辐射系统,光刻设备及其方法
机译:聚焦镜装置在SPring-8 Compact SASE Source(SCSS)的EUV光束线中的性能
机译:用于EUV辐射的紧凑型源和光束输送系统
机译:EUV光刻专用的锡掺杂微滴激光等离子体光源的辐射研究。
机译:基于碳纳米管X射线技术的第一代紧凑型微束放射治疗系统
机译:由伪火花产生的电子束驱动的紧凑型太赫兹辐射源