Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Optik und Feinmechanik, Winzerlaer Strasse 10, 07745 Jena, Germany;
EUV; Mo/Si; broadband mirror; narrowband mirror; coating designs; metrology; plasma source;
机译:有源多层反射镜可在极端紫外线(EUV)波长下进行反射率调整
机译:Mo / Si多层镜在13.5 nm的计量,该激光使用了基于气团靶的激光产生等离子体超紫外线(EUV)源
机译:Mo / Si多层镜在13.5 nm的计量,该激光使用了基于气团靶的激光产生等离子体超紫外线(EUV)源
机译:用于计量应用的EUV镜的光谱反射率调谐
机译:适用于光刻应用的极紫外(EUV)全息计量学。
机译:模糊逻辑系统训练的光谱反射率重建:色彩科学应用
机译:有源多层反射镜,用于在极紫外(EUV)波长下进行反射调谐