Nikon Corp., Miizugahara, Kumagaya, Saitama, Japan, 360-8559;
机译:EPL(电子束投影光刻)的抗蚀剂开发进展
机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
机译:邻近电子光刻技术的进展:使用低能电子束邻近投影光刻技术β的打印和覆盖性能演示
机译:大型子场电子束投影光刻(EPL)的新型电子光学器件
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:像差校正电子束光刻对悬浮石墨烯器件电子传输的影响的原位研究
机译:sCaLpEL:投射电子束光刻*