Graduate School of Science Engineering, Ritsumeikan University, 1-1-1 Noji-Higashi, Kusatsu, Shiga, Japan, 525-8577;
synchrotron radiation lithography; X-ray lithography; sub-micron structure;
机译:三维激光光刻技术制备亚微米结构
机译:用635 nm激光和匹配的光敏聚合物通过全息光刻技术制造二维和三维周期性亚微米结构
机译:同步辐射光刻的三维亚微米结构形状控制制造工艺的开发
机译:用于制造三维微结构的干涉光刻的计算设计
机译:使用简单尺寸变换通过同步X射线平版印刷术制备各种角度的聚合物微结构
机译:使用Synchrotron硬X射线光刻制造斜亚微米结构
机译:聚合物表面的改性及亚微米级功能化结构的深紫外和电子束光刻制备