首页> 中文期刊> 《光机电信息》 >利用同步辐射光刻进行三维微型结构的制作与应用

利用同步辐射光刻进行三维微型结构的制作与应用

         

摘要

@@ 微机械、微机电系统(MEMS)的实用化对自由度大的三维加工方法提出了更高的要求.利用同步辐射(SR)X射线所具有的准直性、透过性的LIGA工艺,可以制作数十μm~数mm高的立体结构.因此,可望该工艺成为制作高性能微机械、MEMS的一种加工方法.该文介绍日本立命馆大学对LIGA工艺的研究现状与应用实例.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号