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Three-dimensional electron beam gas ion lithograph for generating three-dimensional structures deposits given images in vacuum chamber and the scanner electron microscope is supplemented with mini gas pressure chamber

机译:用于产生三维结构的三维电子束气体离子光刻机,将给定图像沉积在真空室中,并在扫描仪电子显微镜上增加了微型气压室

摘要

The lithograph deposits given images in a vacuum chamber (1) using controlled electron beam and purposeful placing of ionized gases. A scanner electron microscope is supplemented with at least a mini gas pressure chamber (5). The gas output from the gas pressure chamber is controllable using a feeding tip, a heated pressure chamber, controllable valves for gas output and aeration and pressure and temperature sensor technology.
机译:使用控制的电子束和有目的地放置电离的气体,光刻机将给定的图像沉积在真空室(1)中。扫描仪电子显微镜至少配有一个微型气压室(5)。可以使用进料头,加热的压力室,用于气体输出和充气的可控阀以及压力和温度传感器技术来控制从气压室输出的气体。

著录项

  • 公开/公告号DE20311971U1

    专利类型

  • 公开/公告日2003-11-06

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WULFSBERG JENS PETER;

    申请/专利号DE2003211971U

  • 发明设计人

    申请日2003-07-31

  • 分类号B82B3/00;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 23:40:44

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