Shanghai Institute of Microsystem Information Technology of the CAS, Shanghai 200050, China;
lithography rule check; LRC; weak points; layout; OPC;
机译:微光学和光刻模拟是掩模对准器中阴影印刷光刻的关键技术
机译:减少计算光刻周期并提高工艺窗口可预测性的有效源掩模优化方法
机译:定制照明,可在掩模对准仪光刻系统中优化工艺窗口并提高良率
机译:光刻窗口检查在018um技术的掩模带上的掩模
机译:下一代光刻掩模的比较分析:PREVAIL和SCALPEL技术。
机译:高度对准的聚合物纳米线蚀刻掩模光刻可实现石墨烯纳米孔晶体管的整合
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)