一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法

摘要

一种无掩膜光刻技术中的镜头畸变矫正方法，包括以下步骤：1、根据DMD微镜面积的大小，计算在微镜中图像上每个像素点与图像中心点的实际距离；2、通过镜头与DMD微镜之间的距离和像素点与中心点的距离计算像素点与光轴的角度；3、根据镜头出厂时的畸变参数计算每个像素点的畸变量；4、利用计算得到的畸变量修正原始图像，得到预畸变图像。本发明可以大幅度矫正因光学系统导致的图像畸变，避免由于光学镜头生产中本身误差因素而带来的缺陷，更加精确的实现PCB线路曝光。