Silicon; Hydrogen implantation; Hydrogen plasma; Thermal donors;
机译:拉曼光谱和原子力显微镜研究了氢注入的切克劳斯基硅中氢相关缺陷的热演化
机译:氢和氦注入及随后的退火在硅中引入的辐射缺陷和热供体
机译:在Czochralski硅中增强氧扩散和热供体形成所需的氢浓度下界
机译:p型氢气植入后钙芳香芯片植入后退火的氢再分配和增强的热吹塑形成
机译:6氢碳化硅和4氢碳化硅中本征和离子注入引起的缺陷的电学和光学表征。
机译:在不同的注入后退火后p型铝注入的4H-SiC层上的欧姆接触
机译:通过氢和氦注入以及随后的退火在硅中引入辐射缺陷和热供体
机译:氢注入非晶硅的激光退火