氢、氦共注入硅的微结构研究

摘要

把氢、氦离子共同注入入单晶硅片，在剂量比两种离子单独注入低的情况下就可以在退火过程中使表面产生砂眼、和剥离的现象。该文对氢、氦共注入的样品用Ｘ射线四晶衍射、ＲＢＳ、ＸＴＥＭ等方法作材料研究，并讨论了氢氦共注入使总离子注入的剂量降低的原因。