机译:高温高压下处理的直拉硅氢化物的微观结构和电性能
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机译:约1500 K温度下的静水压力对切克劳斯基硅缺陷结构的影响
机译:Czochralski种植硅的氧相关缺陷的创作和解散在高压下处理 - 高温
机译:离子注入的硼在硅中的扩散:晶格缺陷和共注入杂质的影响。
机译:氢等离子体处理非晶碳化硅基体减少硅量子点超晶格结构缺陷的研究
机译:退火期间氢气共植入单晶硅的进化
机译:高压 - 高温处理对中子辐照诱导的切克劳斯硅缺陷的影响。