Cymer Inc., 16750 Via Del Campo Crt., San Diego, CA 92127;
EUV lithography; dense plasma focus; solid state pulse power; xenon emission;
机译:用于生产级EUV光刻的密集等离子体焦点
机译:激光辅助对置等离子聚焦装置作为EUV光刻的光源
机译:用于HVM EUV光刻的激光生产的基于锡等离子体的EUV光源技术的开发
机译:用于EUV光刻的密集等离子聚焦光源的性能和缩放
机译:EUV光刻专用的锡掺杂微滴激光等离子体光源的辐射研究。
机译:极紫外光刻光源的激光产生的锡等离子体的电子密度和温度的时间分辨二维分布
机译:密集等离子聚焦装置作为EUV光刻光源的优化