光学布置、尤其是等离子体光源或EUV光刻设备

摘要

本发明涉及光学组件，尤其是等离子体光源(1′)或EUV光刻系统，包含：壳体(2)，其包围内壳空间(3)；真空生成单元，用于在上述壳体(2)中产生真空；至少一个表面(13)，布置在所述内壳空间(3)中；清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)；以及观察装置(25)，用于观察所述表面(13)，其中，所述观察装置(25)具有能够朝着所述表面(13)取向的观察光学单元(26)。所述清洁装置(15)设计为通过释放CO₂颗粒(17)形式的CO₂移除沉积的污染物质(14)。