Cymer推进EUV光刻光源

摘要

今年2月，Cymer在其先进的90W激光光源的XLR600i基础上，推出了扩展性产品ArF光源产品XLR600iX，具有60W和90W可选择性，满足当前和下一代浸没式光刻需求。该产品为32nm双重图形应用而开发，立足于CD控制和晶圆成品率。比起前代产品，波长和带宽稳定性提升了1．5倍，光束稳定性提高了2倍，可扩展的工具为客户带来了最小的成本和最大化的资本投资价值。