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Study of device mass production capability of the character projection based electron beam direct writing process technology toward 14 nm node and beyond

机译：基于字符投影的电子束直接写入工艺向14 nm及更高节点的器件批量生产能力研究

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Techniques to appropriately control the key factors for a character projection (CP) based electron beam direct writing(EBDW) technology for mass production are shown and discussed. In order to achieve accurate CD control, the CPtechnique using the master

机译：展示并讨论了适当控制基于字符投影（CP）的电子束直接写入（EBDW）技术用于批量生产的关键因素的技术。为了实现准确的CD控制，CPtechnique使用了

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来源
《Alternative lithographic technologies IV.》|2012年|P.26.1-26.12|共12页
会议地点 San Jose CA(US)
作者
Yoshinori Kojima; Yasushi Takahashi; Masaki Takakuwa; Shuzo Ohshio; Shinji Sugatani;
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作者单位

e-Shuttle, Inc. (Japan);

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类微电子学、集成电路（IC）;微电子学、集成电路（IC）;
关键词

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