Electronic Research Laboratory, University of California at Berkeley, Berkeley, CA 94720;
line-edge roughness; shot noise; non-fickean diffusion; flare; continuous resist modeling; large unlikely roughness event (LURE);
机译:纳米CMOS技术中线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)的研究:第一部分–建模和仿真方法
机译:基于噪声的线边缘粗糙度度量提取的鲁棒性的实验和基于模型的研究
机译:基于线性时变滑移摩擦模型的齿轮粗糙度诱导噪声预测
机译:通过散射法测量线边缘粗糙度的灵敏度分析:基于仿真的研究
机译:极紫外光刻中掩模的粗糙度引起的线边缘粗糙度
机译:EUV光刻胶的分子模型揭示了链构象对线边缘粗糙度形成的影响
机译:电子光刻中喷丸噪声引起的侧壁粗糙度的模拟