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Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI
Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI
召开年:
2012
召开地:
San Jose, CA(US)
出版时间:
-
会议文集:
-
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1.
Through-silicon via plating void metrology using focused ion beam mill
机译:
使用聚焦离子束研磨机的全硅通孔电镀空隙计量
作者:
A. C. Rudack
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
2.
Front Matter: Volume 8324
机译:
前题:第8324卷
作者:
Proceedings of SPIE
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
3.
Multiple column high-throughput e-beam inspection (EBI)
机译:
多列高通量电子束检查(EBI)
作者:
David K. Lam
;
Enden D. Liu
;
Cong Tran
;
Ted Prescop
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
4.
High-throughput and non-destructive sidewall roughness measurement using 3-dimensional atomic force microscopy
机译:
使用3维原子力显微镜进行高通量和无损侧壁粗糙度测量
作者:
Yueming Hua
;
Cynthia Buenviaje-Coggins
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
5.
Measuring thermally induced void growth in conformally filled through-silicon vias (TSVs) by laboratory x-ray microscopy
机译:
通过实验室X射线显微镜测量保形填充的硅通孔(TSV)中的热诱导空隙生长
作者:
L. W. Kong
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
6.
Wafer level warpage characterization of 3D interconnect processing wafers
机译:
3D互连处理晶圆的晶圆级翘曲特性
作者:
Po-Yi Chang
;
Yi-Sha Ku
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
7.
Quality indicators of image-based overlay
机译:
基于图像的叠加质量指标
作者:
Yen-Liang Chen
;
Jacky Huang
;
Rita Lee
;
Chen-Ming Wang
;
Chih-Ming Ke
;
Tsai-Sheng Gau
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
8.
Inspection and metrology for through-silicon vias and 3D integration
机译:
硅通孔和3D集成的检查和计量
作者:
Andrew C. Rudack
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
9.
Overlay accuracy with respect to device scaling
机译:
关于器件缩放的覆盖精度
作者:
Philippe Leray
;
David Laidler
;
Shaunee Cheng
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
10.
Ultrahigh 22-nm resolution EUV coherent diffraction imaging using a tabletop 13-nm high harmonic source
机译:
使用台式13nm高谐波源的超高22nm分辨率EUV相干衍射成像
作者:
Matthew D. Seaberg
;
Daniel E. Adams
;
Bosheng Zhang
;
Dennis F. Gardner
;
Margaret M. Murnane
;
Henry C. Kapteyn
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
11.
Accurate optical CD profiler based on specialized finite element method
机译:
基于专业有限元方法的精确光学CD轮廓仪
作者:
Jesus Carrero
;
Gökhan Perçin
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
12.
Sub-nanometer calibration of line width measurement and line edge detection by using STEM and sectional SEM
机译:
使用STEM和截面SEM对线宽测量和线边缘检测进行亚纳米级校准
作者:
Kiyoshi Takamasu
;
Haruki Okitou
;
Satoru Takahashi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
13.
Profile variation impact on FIB cross-section metrology
机译:
轮廓变化对FIB横截面计量的影响
作者:
Aaron Cordes
;
Benjamin Bunday
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
14.
Potential new CD metrology metric combined with data fusion for future node production
机译:
潜在的新CD度量指标与数据融合相结合,可用于未来的节点生产
作者:
J. Foucher
;
J. Hazart
;
N. Griesbach Schuch Figueiro
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
15.
Transistor architecture impact on wafer inspection
机译:
晶体管架构对晶圆检查的影响
作者:
Timothy F. Crimmins
会议名称:
《》
|
2012年
16.
Coherent Fourier scatterometry: tool for improved sensitivity in semiconductor metrology
机译:
相干傅里叶散射法:提高半导体计量灵敏度的工具
作者:
N. Kumar
;
O. El Gawhary
;
S. Roy
;
V. G. Kutchoukov
;
S. F. Pereira
;
H. P. Urbach
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
17.
In-line metrology of 3D interconnect processes
机译:
3D互连过程的在线计量
作者:
Y. S. Ku
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
18.
Feasibility study of matched machine overlay enhancement toward next-generation device development
机译:
匹配的机器覆盖增强功能用于下一代设备开发的可行性研究
作者:
Jeongjin Lee
;
Seungyoon Lee
;
Chan Hwang
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
19.
Evaluation of a novel ultra small target technology supporting on-product overlay measurements
机译:
评估支持产品覆盖测量的新型超小型目标技术
作者:
Henk-Jan H. Smilde
;
Arie den Boef
;
Michael Kubis
;
Martin Jak
;
Mark van Schijndel
;
Andreas Fuchs
;
Maurits van der Schaar
;
Steffen Meyer
;
Stephen Morgan
;
Jon Wu
;
Vincent Tsai
;
Cathy Wang
;
Kaustuve Bhattacharyya
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
20.
Methodology for establishing CD-SEM robust metrology algorithm for development cycles applications
机译:
为开发周期应用程序建立CD-SEM鲁棒计量算法的方法
作者:
Keiichiro Hitomi
;
Shoji Hotta
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
21.
Faster diffraction-based overlay measurements with smaller targets using 3D gratings
机译:
使用3D光栅以较小的目标进行基于衍射的更快的叠加测量
作者:
Jie Li
;
Yongdong Liu
;
Prasad Dasari
;
Jiangtao Hu
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
22.
A comparison of alignment and overlay performance with varying hardmask materials
机译:
各种硬掩模材料的对准和覆盖性能的比较
作者:
Sangho Yun
;
Soon Mok Ha
;
Young Min Nam
;
Cheol-Hong Kim
;
Suk-Woo Nam
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
23.
New analytical algorithm for overlay accuracy
机译:
新的叠加精度分析算法
作者:
Boo-Hyun Ham
;
Sangho Yun
;
Min-Cheol Kwak
;
Soon Mok Ha
;
Cheol-Hong Kim
;
Suk-Woo Nam
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
24.
Sensitivity analysis of line-edge roughness measured by means of scatterometry: a simulation-based investigation
机译:
通过散射法测量线边缘粗糙度的灵敏度分析:基于仿真的研究
作者:
Bartosz Bilski
;
Karsten Frenner
;
Wolfgang Osten
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
25.
Contour metrology using critical dimension atomic force microscopy
机译:
使用临界尺寸原子力显微镜的轮廓计量
作者:
Ndubuisi G. Orji
;
Ronald G. Dixson
;
András E. Vladár
;
Bin Ming
;
Michael T. Postek
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
26.
Compensation of CD-SEM image-distortion detected by View-Shift Method
机译:
视平移法检测CD-SEM图像失真的补偿
作者:
Osamu Inoue
;
Takahiro Kawasaki
;
Hiroki Kawada
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
27.
Measurement of through silicon via etch profile by dark-field optical microscope
机译:
暗场光学显微镜对硅通孔蚀刻轮廓的测量
作者:
Deh-Ming Shyu
;
Yi-sha Ku
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
28.
Application of DBM system to overlay verification and wiggling quantification for advanced process
机译:
DBM系统在叠加验证和摆动量化中的应用
作者:
Taehyeong Lee
;
Jungchan Kim
;
Gyun Yoo
;
Chanha Park
;
Hyunjo Yang
;
Donggyu Yim
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
29.
Data feed-forward for improved optical CD and film metrology
机译:
数据前馈可改善CD和胶片的光学计量
作者:
L. Mihardja
;
M. Di
;
Q. Zhao
;
Z. Tan
;
J. C. Robinson
;
H. Chouaib
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
30.
Optimization of blended virtual and actual metrology schemes
机译:
虚拟和实际混合计量方案的优化
作者:
Jae Yeon Claire Baek
;
Costas J. Spanos
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
31.
Lithography process control using in-line metrology
机译:
使用在线计量的光刻工艺控制
作者:
Nicolas Spaziani
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
32.
Noise effects on contact-edge roughness and CD uniformity measurement
机译:
噪声对接触边缘粗糙度和CD均匀度测量的影响
作者:
V. Constantoudis
;
E. Gogolides
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
33.
Challenges of SEM metrology at sub-10nm linewidth
机译:
低于10nm线宽的SEM计量学挑战
作者:
Sergey Babin
;
Sergey Borisov
;
Christophe Peroz
;
Peter Yushmanov
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
34.
Overlay accuracy fundamentals
机译:
叠加精度基础
作者:
Daniel Kandel
;
Vladimir Levinski
;
Noam Sapiens
;
Guy Cohen
;
Eran Amit
;
Dana Klein
;
Irina Vakshtein
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
35.
Novel prediction methodology for etched hole patterning failure
机译:
蚀刻孔图案失效的新预测方法
作者:
Seiro Miyoshi
;
Hideaki Abe
;
Kazuhiro Takahata
;
Tomoko Ojima
;
Masanari Kajiwara
;
Shoji Mimotogi
;
Kohji Hashimoto
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
36.
Dose-focus monitor technique using CD-SEM and application to local variation analysis
机译:
使用CD-SEM的剂量聚焦监测技术及其在局部变化分析中的应用
作者:
Shoji Hotta
;
Keiichiro Hitomi
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
37.
High-order wafer alignment in manufacturing
机译:
制造中的高阶晶圆对准
作者:
Michael Pike
;
Nelson Felix
;
Vinayan Menon
;
Christopher Ausschnitt
;
Timothy Wiltshire
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
38.
Scatterfield microscopy of 22-nm node patterned defects using visible and DUV light
机译:
使用可见光和DUV光的22纳米节点图案缺陷的散射场显微镜
作者:
Bryan M. Barnes
;
Yeung-Joon Sohn
;
Francois Goasmat
;
Hui Zhou
;
Richard M. Silver
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
39.
Phase sensitive parametric optical metrology: exploring the limits of three-dimensional optical metrology
机译:
相敏参量光学计量学:探索三维光学计量学的局限性
作者:
Richard M. Silver
;
Jing Qin
;
Bryan M. Barnes
;
Hui Zhou
;
Ronald Dixson
;
Francois Goasmat
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
40.
Investigation of E-beam patterned nanostructures using Mueller Matrix based Scatterometry
机译:
使用基于Mueller矩阵的散射法研究电子束图案化的纳米结构
作者:
Gangadhara Raja Muthinti
;
Alain C. Diebold
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
41.
High-speed, full 3D feature metrology for litho monitoring, matching, and model calibration with scatterometry
机译:
高速,全3D功能度量衡,用于借助散布法进行光刻监控,匹配和模型校准
作者:
Hugo Cramer
;
Fahong Li
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
42.
Automated S/TEM metrology on advanced semiconductor gate structures
机译:
先进的半导体栅极结构上的自动S / TEM计量
作者:
M. Strauss
;
J. Arjavac
;
D. N. Horspool
;
K. Nakahara
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
43.
Size matters in overlay measurement
机译:
尺寸在叠加测量中很重要
作者:
Nigel P. Smith
;
Brennan L. Peterson
;
Gary R. Goelzer
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
44.
SEM metrology on bit patterned media nanoimprint template: issues and improvements
机译:
位图介质纳米压印模板的SEM计量学:问题和改进
作者:
Justin J. Hwu
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
45.
Can we get 3D-CD metrology right?
机译:
我们可以正确获得3D-CD计量学吗?
作者:
András E. Vladár
;
Petr Cizmar
;
John S. Villarrubia
;
Michael T. Postek
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
46.
Investigation of the performance of state-of-the-art defect inspection tools within EUV lithography
机译:
研究EUV光刻技术中最先进的缺陷检查工具的性能
作者:
Dieter Van den Heuvel
;
Rik Jonckheere
;
Bart Baudemprez
;
Shaunee Cheng
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
47.
Roughness metrology of gate all around silicon nanowire devices
机译:
硅纳米线器件周围的栅极粗糙度测量
作者:
Shimon Levi
;
Ishai Schwarzband
;
Roman Kris
;
Ofer Adan
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
48.
Scatterometry metrology challenges of EUV
机译:
EUV的散射测量学挑战
作者:
Prasad Dasari
;
Jie Li
;
Jiangtao Hu
;
Zhuan Liu
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
49.
On CD-AFM bias related to probe bending
机译:
与探针弯曲有关的CD-AFM偏置
作者:
V. A. Ukraintsev
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
50.
Scanning-electron-microscope image processing for accurate analysis of line-edge and line-width roughness
机译:
扫描电子显微镜图像处理,可精确分析线边缘和线宽粗糙度
作者:
Atsushi Hiraiwa
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
51.
Hybrid metrology solution for 1X node technology
机译:
适用于1X节点技术的混合计量解决方案
作者:
Alok Vaid
;
Alexander Elia
;
Mark Kelling
;
John Allgair
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
52.
ArFi lithogrphy optimization for thin OMOG reticle with fast aerial imaging
机译:
快速空中成像的薄OMOG掩模版的ArFi光刻技术优化
作者:
Yaron Cohen
;
Shmoolik Mangan
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
53.
Patterned defect and CD metrology by TSOM beyond the 22-nm node
机译:
TSOM在22纳米节点以外的图案缺陷和CD计量
作者:
Abraham Arceo
;
Benjamin Bunday
;
Victor Vartanian
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
54.
Static and dynamic photoresist shrinkage effects in EUV photoresists
机译:
EUV光刻胶中的静态和动态光刻胶收缩效果
作者:
Benjamin Bunday
;
Cecilia Montgomery
;
Aaron Cordes
会议名称:
《Conference on metrology, inspection, and process control for microlithography XXVI》
|
2012年
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