Infineon Technologies Corporate Research, 81730 Muenchen, Germany;
机译:辐照全耗尽SOI器件中的带间隧穿引起的漏泄漏的栅长和漏偏压依赖性
机译:辐射引起的反向沟道泄漏和反向栅极偏置对薄栅氧化物部分耗尽绝缘硅上n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的漏电流瞬态的影响
机译:超小型FDSOI,DGSOI和FinFET器件中隧道泄漏机理的多子带集成蒙特卡罗分析
机译:具有未掺杂沟道MOSFET的完全耗尽SOI器件中的漏极泄漏机制
机译:锗PMOS中的栅极间寄生电容最小化和源极-漏极泄漏评估。
机译:钙激活人癌细胞A431细胞中的钙进入 存储耗竭和磷脂酶C依赖机制收敛 在类似于ICRAC的钙通道上
机译:闪烁的FDSOI,DGSOI和FINFET器件中隧道渗漏机制的多相带集合蒙特卡罗分析
机译:mOs器件中栅极引漏漏电流