IMEC, Kapeldreef 75, B-3001, Belgium;
机译:具有晕圈/口袋注入的MOS晶体管的改进的位移比L_(eff)提取方法
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机译:高性能全耗尽三栅极CMOS晶体管
机译:全耗尽SOI CMOS晶体管的新移位和比例L_(EFF)提取算法
机译:晶体管放置算法,用于CMOS / BiCMOS逻辑和接口电路的自动布局合成。
机译:作为后CMOS器件基于石墨烯的横向异质结构晶体管表现出比基于石墨烯的垂直晶体管更好的固有性能
机译:采用全耗尽三栅极晶体管,自对准触点和高密度mIm电容器的22nm高性能和低功耗CmOs技术
机译:全剂量辐照期间全耗尽sOI晶体管响应的新见解