Department of Electronic Science and Engineering, Kyoto University, Nishikyo, Kyoto 615-8510;
Charge carrier processes; Dielectrics; Doping; Oxidation; Silicon; Silicon carbide; Thermal conductivity; Silicon carbide (SiC); conduction-type dependence; doping dependence; oxidation; silicon dioxide (SiO2); spectroscopic ellipsometry;
机译:不同掺杂浓度下导电类型对SiC(0001)热氧化速率的影响
机译:4H-SiC(0001)表面的超高温快速热氧化及SiO_2 / SiC界面性质的氧化温度依赖性
机译:在4H-SiC(0001)Si面和(000-1)C面衬底上热生长氧化物的同步加速辐射光电子能谱研究
机译:导通型热氧化率对SiC(0001)的依赖性
机译:通过发光光谱和X射线衍射测定在6H-SiC(0001)衬底上生长的GaN和Al(x)Ga(1-x)N薄膜的应变和组成。
机译:三层石墨烯/ SiC(0001)的原子和电子结构:强烈依赖于堆积顺序和电荷转移的证据
机译:p型6H-siC(0001)上热生长氧化物纳米薄膜的密度分布和电学性质
机译:siC(0001-)和siC(0001)表面的比较氧化研究