后处理方式对二氧化钛电沉积薄膜开路电位的影响

摘要

具有较强化学稳定性的半导体TiO<,2>膜不但可用作光催化材料,而且耐酸碱、抗光腐蚀,是优良的耐蚀材料。本文采用了阴极电沉积法(CELD),以TiCl<,4>为原料,羟基过氧化钛络合物为前驱体,在301不锈钢表面构筑一层纳米TiO<,2>薄膜,研究了不同后处理方式对二氧化钛电沉积薄膜开路电位的影响。