电沉积方式对不锈钢基体钴-钨纳米合金薄膜结构和硬度影响

摘要

采用不同电沉积方式制备了不同结构和晶粒尺寸的纳米晶钴-钨(Co-w)合金薄膜.采用扫描电镜和X-射线衍射仪分别分析了薄膜表面形貌、晶相结构与晶粒尺寸,采用MV-2T显微硬度计测试薄膜的硬度,采用附能谱仪(EDS)的电子扫描显微镜分别对不同沉积方式制备的Co-W合金薄膜的形貌和含量进行分析.结果表明,电沉积方式显著影响制备的纳米Co-W合金薄膜的晶相结构、晶粒尺寸、薄膜形貌和组分含量,合金薄膜的硬度取决于其晶粒尺寸,w含量及表面形貌.单脉冲制备的Co-W合金薄膜具有最高的硬度,主要是由于其w含量最高,起到固溶强化作用.采用双脉冲制备的纳米Co-w合金薄膜具有较小的晶粒尺寸,较高的硬度,结构最致密.这些研究结采说明可通过优化电沉积方式来提高薄膜的结构致密性,改善其硬度.