UHV/CVD生长的弛豫GeSi薄膜

摘要

采用Ｘ－射线衍射，二次离子质谱和Ｒａｍａｎ光谱研究了超高真空化学气相淀积生长的Ｇｅ组分渐变ＧｅＳｉ合金薄膜的应变与弛豫。