ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术

摘要

电子回旋共振等离子体化学气相沉积（ECR Plasma CVD）法淀积介质膜技术是实现性能优良的光电子器件光学膜和电学膜的重要技术手段之一，该文阐述了该技术的原理和优点，介绍了所淀积的介质膜的优良特性等等。