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ECR Plasma CVD法淀积808nm大功率半导体激光器光学膜工艺研究

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本文介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积（简称ＥＣＲＰｌａｓｍａＣＶＤ）法淀积８０８ｎｍ大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺，给出了工艺条件，探索了膜系监控的方法和优越性，讨论了这种淀积方法的优点和淀积的光学膜的优良特性．

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来源
《半导体学报：英文版》|1999年第7期|589-592|共4页
作者
谭满清; 茅冬生;
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作者单位

中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心;

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正文语种 chi
中图分类半导体激光器;
关键词
半导体激光器; ECRPlasmaCVD; 光学膜;

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