ＥＣＲ ｐｌａｓｍａ ＣＶＤ法淀积非晶硅工艺的研究

摘要

结合ＥＣＲ ｐｌａｓｍａ ＣＶＤ法淀积器件介质光学膜的需要，对其淀积非晶硅的工艺进行了系统的研究，并对淀积的硅膜进行了光学性质和其它的物理性质的研究。