ＮＩＣＰ刻蚀设备及工艺研究

摘要

介绍了一种高速干法刻蚀设备ＮＩＣＰ－１型机。在该机上研究了硅的深腐蚀工艺，其腐蚀速率可达３μ／ｍｉｎ，硅与光刻胶刻蚀速率比达到１２５：１，可满足微机械加工的需要。