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房之栋;
哈尔滨工业大学;
机译:电感耦合等离子体刻蚀去除单晶La_3Ga_5SiO_(14)中化学机械抛光引起的损伤层
机译:大气压等离子体可抛光单晶蓝宝石
机译:Ga_2中通孔的高刻蚀速率选择性刻蚀的电感耦合Cl_2 / BCl_3等离子体工艺研究
机译:基于大气压等离子体工艺(第4次报告)在等离子体支撑抛光和抛光速率相关性的基于大气压等离子体工艺(第4次报告)的高效损坏单晶钻石板的平滑平面和平滑
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:铁基形状记忆单晶的两步时效工艺研究
机译:抛光和氧等离子体刻蚀后未掺杂同质外延金刚石膜的缺陷分析和激子扩散
机译:肯塔基州卡特莱茨堡H-Coal试验厂场废水处理抛光工艺研究
机译:在大气压力下进行等离子体刻蚀的系统,用于执行材料表面的等离子体刻蚀
机译:单晶片实时刻蚀速率和等离子体刻蚀过程的均匀度预测器
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